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日本uv-asumi研發(fā)用掃描型準(zhǔn)分子輻照裝置

日本uv-asumi研發(fā)用掃描型準(zhǔn)分子輻照裝置

更新日期:2024-05-15

訪問量:986

廠商性質(zhì):經(jīng)銷商

生產(chǎn)地址:

簡要描述:
日本uv-asumi研發(fā)用掃描型準(zhǔn)分子輻照裝置
它是一種將主波長為 172 nm 的準(zhǔn)分子照射單元、掃描臺和臭氧分解裝置集成在一起的設(shè)備,只需 100 V 電源即可進(jìn)行簡單安全的準(zhǔn)分子表面改性實驗。

日本uv-asumi研發(fā)用掃描型準(zhǔn)分子輻照裝置

它是一種將主波長為 172 nm 的準(zhǔn)分子照射單元、掃描臺和臭氧分解裝置集成在一起的設(shè)備,只需 100 V 電源即可進(jìn)行簡單安全的準(zhǔn)分子表面改性實驗。

【特征】

  • 掃描階段可以處理比以前更大的區(qū)域。

  • 配備臭氧分解裝置,無需排氣設(shè)備。

  • 日本uv-asumi研發(fā)用掃描型準(zhǔn)分子輻照裝置

研發(fā)用掃描型準(zhǔn)分子輻照裝置
模型ASM86準(zhǔn)分子
發(fā)射波長172nm
待處理對象W86mm x D120mm 以下,厚度 40mm 以下
照射距離調(diào)整帶有用于調(diào)節(jié)的實驗室千斤頂(可變照射距離從 0 到 40 mm)
外形尺寸機(jī)身:(W) 432 mm x (D) 510 mm x (H) 520.5 mm(不包括突出部分)
大約重量約 25 kg(主體 20 kg,照射單元 4.8 kg)
機(jī)身材質(zhì)SUS304 / A5052P / SPCC
輻照單元
燈具制造商濱松光電株式會社制造
模型平面準(zhǔn)分子 EX-86U L13129
輻照強度65mW/cm2
照射面尺寸推薦 86mm x 40mm
準(zhǔn)分子有效照射距離 5mm 以內(nèi)
冷卻方式強制風(fēng)冷
運輸科
表材A5052P(帶對齊狹縫)
遮光罩PVC(UV cut黃色)
處理速度0.1mm/秒-120mm/秒
加工活動范圍240mm
其他
觸控面板4英寸單色觸摸屏
食譜數(shù)量20個配方(加工速度和照射時間可設(shè)置)
監(jiān)控功能具有當(dāng)前速度/當(dāng)前位置/剩余時間顯示功能
臭氧排氣設(shè)備內(nèi)置臭氧催化劑(強制風(fēng)扇排氣)
公用事業(yè)AC100V 50 / 60Hz 400VA




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