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日本dip評估裝置(膜厚計)AFW-100W
更新日期:2024-05-12
訪問量:991
廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
生產(chǎn)地址:
簡要描述:
日本dip評估裝置(膜厚計)AFW-100W與SEM和測針型輪廓儀不同,無需接觸即可進(jìn)行測量。-與橢偏儀相比,價格低廉且易于使用。
日本dip評估裝置(膜厚計)AFW-100W
日本dip評估裝置(膜厚計)AFW-100W
評估裝置(膜厚計)
建議將反射光譜膜厚計用于硬涂層等膜厚測量應(yīng)用。
[機(jī)理]當(dāng)
用光照射樣品時,取決于膜的厚度,它顯示出*的光譜。膜表面上反射的光與穿過膜并在基板表面上反射的光相互干擾。當(dāng)光的相位匹配時,強(qiáng)度增加,而當(dāng)光的相位偏移時,強(qiáng)度降低。反射法是通過分析該光譜來測量膜厚的方法。
[優(yōu)點(diǎn)]-
與SEM和測針型輪廓儀不同,無需接觸即可進(jìn)行測量。
-與橢偏儀相比,價格低廉且易于使用。
將來也可以將其安裝在量產(chǎn)設(shè)備中。
模型 | AFW-100W |
---|---|
用 | 一般膜厚 |
設(shè)備配置 | 單元本體,測量架,2分支光纖(1.5m),PC |
測量波長范圍 | 380-1050納米 |
膜厚測量范圍 | 100nm?1μm(曲線擬合法) |
1μm至60μm(FFT) | |
測量重現(xiàn)性 | 0.2%-1%(取決于膠片質(zhì)量) |
測量光斑直徑 | 約7mm |
光源 | 12V-50W鹵素?zé)?/font> |
測量理論 | 曲線擬合法/ FFT法 |
外形尺寸(mm) | 尺寸支架:W150 x D150 x H115 |
機(jī)身:W230 x D230 x H135 | |
大概重量 | 5.5kg *不包括PC |
公用事業(yè) | AC100V 50/60赫茲 |
轟天猛將 | 鹵素?zé)?/font> |
測量工作量
從傳感器正下方的深度尺寸(黃色箭頭):
可以測量126毫米8英寸晶圓。
顯微分光膜測厚儀
通過使用顯微鏡,可以測量過去無法測量的具有不規(guī)則性的電子元件和曲面透鏡。
名稱 | 顯微分光膜測厚儀 |
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設(shè)備配置 | 顯微鏡,機(jī)身,光纖(1m),PC |
顯微鏡 | 奧林巴斯金相顯微鏡 |
測量波長范圍 | 380-700納米 |
膜厚測量范圍 | 50nm-1.5μm(C / F) |
1.5μm至50μm(FFT) | |
測量重現(xiàn)性 | 0.2%-1%(取決于膠片質(zhì)量) |
測量光斑直徑 | Φ6μm至Φ120μm |
光源 | 12V-100W鹵素?zé)?/font> |
測量理論 | 曲線擬合法/ FFT法 |
外形尺寸(mm) | 顯微鏡:W317.5 x D602 x H480 |
機(jī)身:W230 x D230 x H135 | |
大概重量 | 25kg *不包括PC |
公用事業(yè) | AC100V 50/60赫茲 |
轟天猛將 | 鹵素?zé)?/font> |