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日本tekhne激光水分測(cè)定儀4010BR

日本tekhne激光水分測(cè)定儀4010BR

更新日期:2024-05-11

訪(fǎng)問(wèn)量:1363

廠(chǎng)商性質(zhì):經(jīng)銷(xiāo)商

生產(chǎn)地址:

簡(jiǎn)要描述:
日本tekhne激光水分測(cè)定儀4010BR
型號(hào)4010BR
激光水分儀
照片:MBW373系列
MBW
373系列
露點(diǎn):-95°C至+ 95°C
照片:MBW573系列
MBW
573系列
露點(diǎn):-60°C至+ 95°C
固定式
照片:MBW973系列
MBW
973系列
露點(diǎn):-80℃?+ 20℃
便攜的
照片:MBW973-SF6
MBW
973-SF6
露點(diǎn):-50°C至+

日本tekhne激光水分測(cè)定儀4010BR

日本tekhne激光水分測(cè)定儀4010BR

 

 

特征
  • 緊湊型TDLAS濕度計(jì)
  • 帶有數(shù)據(jù)記錄儀采樣系統(tǒng)
  • 對(duì)濃度變化的快速響應(yīng)
  • 長(zhǎng)期穩(wěn)定的測(cè)量是可能的
  • 操作簡(jiǎn)單
  • 防爆等級(jí)I,D,I,B,C,D組
主要用途
  • 天然氣的水分管理
  • 工業(yè)爐中的水分管理
  • 工業(yè)氣體的水分管理

觀(guān)點(diǎn)

緊湊型TDLAS水分測(cè)定儀
Model4010BR非常適合在需要防爆功能(主要涉及天然氣和石化產(chǎn)品)的條件下進(jìn)行水分測(cè)量。另外,我們審查了設(shè)計(jì)以確保高價(jià)格和大安裝空間,這是常規(guī)激光吸收光譜法的問(wèn)題,并且實(shí)現(xiàn)了小型化和低價(jià)格。
工作原理
處理氣體中包含的諸如飽和水蒸氣,氧氣和氫氣之類(lèi)的氣體分子具有吸收近紅外線(xiàn)的特性。氣體分子吸收近紅外線(xiàn)的波長(zhǎng)帶因氣體的種類(lèi)而異,通過(guò)用TDLAS精確地確定飽和水蒸氣吸收的波長(zhǎng)帶,可以準(zhǔn)確地測(cè)量飽和水蒸氣的量,而不受其他氣體分子的影響??梢詼y(cè)量。
快速響應(yīng)和可靠性
AMI利用吸收光譜技術(shù)開(kāi)發(fā)了一種創(chuàng)新的TDLAS(可調(diào)二極管激光)濕度計(jì),它利用了多年來(lái)在氧氣濃度計(jì)領(lǐng)域處于行業(yè)地位的專(zhuān)業(yè)知識(shí)。的TDLAS濕度計(jì)具有出色的高速響應(yīng)和可靠性,測(cè)量時(shí)間僅為2秒(響應(yīng)率為90%)。另外,可以長(zhǎng)時(shí)間穩(wěn)定地進(jìn)行測(cè)量,并且可以準(zhǔn)確地監(jiān)視飽和水蒸氣量。
操作簡(jiǎn)單
始終將用戶(hù)的易用性放在*,所有操作都可以從面板的前面進(jìn)行,而無(wú)需從安裝面板上卸下分析儀。這為您省去了很多麻煩。可以進(jìn)行的操作包括測(cè)量,校準(zhǔn),輸出范圍設(shè)置,兩點(diǎn)警報(bào)設(shè)置,校準(zhǔn)期間的跨度更改等。
 
 
 
 

鏡面冷卻式露點(diǎn)計(jì)?水分計(jì)

寫(xiě)真:MBW 373シリーズ
MBW373
世界峰の高精度
露點(diǎn):-95℃~+95℃
  • 設(shè)置型
寫(xiě)真:MBW 573シリーズ
MBW573
高露點(diǎn)主體モデル
露點(diǎn):-60℃~+95℃
  • 設(shè)置型
寫(xiě)真:MBW 973シリーズ
MBW973
低露點(diǎn)域のスタンダード
露點(diǎn):-80℃~+20℃
  • ポータブル
寫(xiě)真:MBW 973-SF6
MBW973-SF6
SF6ガス専用モデル
露點(diǎn):-50℃~+20℃
  • ポータブル
寫(xiě)真:MBW 473シリーズ
MBW473
濕度領(lǐng)域の基準(zhǔn)器
露點(diǎn):-50℃~+99℃
  • ポータブル
寫(xiě)真:腐食性ガス中水分計(jì) TAMシリーズ
TMA
腐食性ガス専用モデル
水分濃度:0~2500ppm
  • ポータブル
  •  
    • 設(shè)置型
  • 寫(xiě)真:レーザー式水分 Model4010BR
    Model4010BR
    超高応答速水分計(jì)
    水分濃度:5~420ppm
    • 設(shè)置型
 

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